구글에 검색해보시는게 더 빠르게 많은 정보 얻으실 수 있을 거예요... 유전율이 높은 물질이니까 캐패시턴스가 커지고 그러다보면 축전기로써의 역할을 더 잘하는거니까 전류가 덜 새어나가겠죠..? 근데 그래도 여전히 이곳저곳에서 전류가 세어나가서 전류가 새어나갈 sub 쪽을 갈아버리는 형태 (soi)로 공정하는 방법이 개발되기도 하였고.. 여전히 누설전류와는 싸우는 중입니다
Wilhelm Wundt*
2020.10.11
감사합니다! 이쪽 분야에 흥미가 생겨서 찾아보는 중인데, 아직 너무 어려워서 여기에 한 번 여쭤봤어요. 렛유인 반도체 책을 사볼까 고민도 되네요.. 다시한번 답변 감사해요!!
2020.10.11
high-k 물질을 쓰는 이유는 높은 캐패시턴스를 얻기 위해서입니다. 누설전류 낮추는 건 다른 관점이에요
Wilhelm Wundt*
2020.10.11
Eugen Böhm von Bawerk 님, 하이케이 물질을 사용하면 높은 커패시턴스 값을 얻게 되어 결국 그게 누설전류를 낮출 수 있는거 아닌가요?? 저는 이렇게 이해했는데ㅠㅠ
2020.10.11
gate controllability와도 연관되어 있습니다. 관련된 내용은 검색하시면 쉽게 찾아보실 수 있어요.
2020.10.11
보통 누설전류는 dc current를 얘기하는 거에요. 스탠바이 dc전압 하에서 전류가 새는거에요. 그러니까 쓸데없는 파워가 낭비되는거고...
high-k 물질을 쓰면 단위면적당 캡이 커지니까 ac 전압하에서는 원하는 목표를 이룬건데, dc 전압하에서는 유전율이 아니라 resistivity값이 다르니 누설전류가 커질 수 있어요
Wilhelm Wundt*
2020.10.11
아직 갈 길이 머네유.... 감사합니다!! 더 찾아보고 공부해야 할 것 같아요..!!
2020.10.11
HKMG는 07년 인텔 45nm노드 부터 양산된 기술입니다
2020.10.11
뭐 여러가지 high k 물질은 지금도 개발하고 있겠지만 기술 자체는 오래된 기술이에요
2020.10.11
이런거 답변해주시는 분들은 반도체 공정프로세스/물성쪽 대학원생들이신가요? High-K가 학부생도 알고 있는 보편화된 지식이긴 하지만 깊이의 차이는 다르긴 해서요
2020.10.11
2020.10.11
2020.10.11
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2020.10.12
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