[한국과학기술연구원] 차세대반도체 연구소 반도체기술연구단 석사/박사/석박통합과정 학생연구원 모집

한국과학기술연구원 (KIST) 차세대반도체연구소 반도체기술연구단에서
2026년도 하반기 석사/박사/석박사 통합 과정으로 입학할 학생연구원을 모집합니다.

⭕ 모집대상
- 학연협동연구(학연생) 석사/박사/석박사통합 과정 (2026년 9월 입학, 2월 초 공고예정)
(https://kist.re.kr/ko/notice/recruiting-students.do)
- 서울대, 연세대, 고려대 (KU-KIST), 한양대 등의 협력대학에서 기본 교과목을 이수하고 KIST에서 연구과제에 참여

⭕ 지원자격
- 4년제 대학 졸업자 혹은 2026년 8월 졸업예정자
- 신소재, 물리, 전기전자공학 등 반도체 관련 학과 전공자
- 입학 전 영어 점수 제출 필수 (최근 2년 이내 성적, TOEFL: iBT 79점, PBT(revised): 59점, TOEIC: 730점, NEW TEPS: 277점, IELTS: 6점, TOEIC Speaking: IM3, OPIc: IM3)

⭕ 연구분야
- 차세대 지능형 반도체 기술 개발 (확률연산 컴퓨팅, 뉴로모픽, Processing in Memory 등)
- 스핀 기반의 차세대 반도체 메모리 소재 및 소자 기술 개발
- 저차원 물질의 특성 연구 및 이를 활용한 나노 전자소자 기술 개발
- 랜덤 연산 반도체용 신소재 기반 랜덤 소자 개발

⭕ 관련 연구과제 (진행중)
- 스핀 신물질 기반 확률연산 반도체 기술 개발
- 초고속⋅초저전력 랜덤연산 반도체 개발
- 초고집적 반도체용 vdW 소재 및 공정기술개발

⭕ 지원방법
- 간단한 이력서, 자기소개서 및 성적증명서를 이메일 지원 후 세부사항 논의 (kylee80@kist.re.kr, 2026년 2월 13일까지)

⭕ 기타 안내사항
- 반도체기술연구단에 소속되어 학생연구원으로 일하게 되면 첨단 반도체 분야 핵심 공정 관련 국내 최고 수준의 인프라 및 기술에 대한 전반적인 경험 가능
1. 다층 박막 제작: sputtering, e-beam evaporation, ALD 공정 등
2. 박막 물성 측정: C-V, I-V, MOKE, VSM, XRD, AFM, SEM, TEM, XPS 측정 등
3. 나노 소자 제작: Ion beam etching, RIE, photo & e-beam lithography 등
- 한국과학기술연구원 서울 본원 (서울시 성북구 하월곡동) 근무
- 국내 외 학술대회 발표 기회 제공
- KIST에서 근로계약을 맺은 연구원 대우 (학연생 규정에 따른 급여, 4대 보험, 인센티브)